✦ 30 dni na zwrot · Zwrot na nasz koszt · Bezpieczna płatność ✦
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

Mikrometr laboratoryjny, regulowany aplikator mokrej powłoki do badań materiałów - precyzyjne narzędzie do powlekania | 200mm

98.99 1,735.59
Save 94%
Zwrot bez ryzyka w 30 dni i gwarancja zwrotu pieniędzy
Rozmiar
Dodano do koszyka.

Przegląd produktu

- Precyzyjnie regulowany prześwit ostrza dla dokładnej kontroli grubości folii w zakresie od 0 do 3500 μm.
- Wykonane z wysokiej jakości stali nierdzewnej, zapewniającej trwałość i długotrwałe użytkowanie w warunkach laboratoryjnych.
- Idealny do różnych zastosowań, w tym do odlewania taśm ceramicznych, powlekania elektrod akumulatorowych oraz badań naukowych w zakresie drukowania i klejów.
- Przyjazna dla użytkownika konstrukcja pozwala na łatwą regulację szerokości i grubości folii, zapewniając spójne rezultaty.
- W zestawie znajdują się szczegółowe instrukcje użytkowania i konserwacji, które zapewniają optymalną wydajność i trwałość urządzenia.

Używamy plików cookie, aby ulepszyć Twoje doświadczenia. Klikając „Akceptuję”, wyrażasz zgodę na naszą Polityka prywatności.