Tablica kalibracyjna obiektywu aparatu do testowania rozdzielczości, dokładność ± 1 µm, nieodblaskowa, idealna do badań naukowych i inspekcji przemysłowych

- Innowacyjny proces litografii bezpośredniego zapisu: ta zaawansowana technika przekracza konwencjonalne granice precyzji przetwarzania, umożliwiając precyzyjne wytwarzanie bardzo drobnych mikrostruktur.
- Dokładna tolerancja ± 1 µm: rygorystyczna kontrola procesu zapewnia, że tolerancja jest konsekwentnie utrzymywana w granicach ±1 µm, zapewniając niezawodne dane do badań i testów.
- Jednolita konstrukcja oświetlenia: Zawiera materiały z rozproszoną obróbką odbicia, aby wyeliminować zlokalizowane podświetlenia, promując równomierne warunki oświetleniowe w środowiskach testowych.
- Aluminiowa podstawa zapewnia stabilność i trwałość: Wykonany z wysokiej jakości aluminium, produkt ten zapewnia wyjątkową trwałość i stabilność wymiarową, dzięki czemu nadaje się do długotrwałego użytkowania w wymagających warunkach przemysłowych.
- Wszechstronne zastosowanie: idealne do różnych dziedzin, w tym kalibracji rozdzielczości urządzeń optycznych i oceny wydajności nośników obrazowych, dzięki czemu nadaje się zarówno do zastosowań badawczych, jak i przemysłowych.